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    PV峰谷值與RMS均方根

    日期:2024-11-22 10:38
    瀏覽次數(shù):5145
    摘要: PV (Peak to valley),也叫峰谷值,是光學(xué)表面面形質(zhì)量的常見指標。它是指在取樣范圍內(nèi)(基于2D輪廓線或者3D數(shù)據(jù)地圖),去除基準面之后;*高點和*低點之間的高度差。如下圖,2D輪廓線的PV值。 RMS,也叫均方根值;是指取樣范圍內(nèi)(基于2D輪廓線或者3D數(shù)據(jù)地圖),去除基準面之后;所有像素點的標準差,計算方法如下圖,2D輪廓線的RMS值。 PV值的意義非常直觀,易于理解。所有像素*大的偏差范圍,直接了當?shù)胤从沉水斍肮鈱W(xué)表面的加工質(zhì)量。 PV值的缺點在于,它是在百萬像素中,...

    PV (Peak to valley),也叫峰谷值,是光學(xué)表面面形質(zhì)量的常見指標。它是指在取樣范圍內(nèi)(基于2D輪廓線或者3D數(shù)據(jù)地圖),去除基準面之后;*高點和*低點之間的高度差。如下圖,2D輪廓線的PV值。

    RMS,也叫均方根值;是指取樣范圍內(nèi)(基于2D輪廓線或者3D數(shù)據(jù)地圖),去除基準面之后;所有像素點的標準差,計算方法如下圖,2D輪廓線的RMS值。

    PV值的意義非常直觀,易于理解。所有像素*大的偏差范圍,直接了當?shù)胤从沉水斍肮鈱W(xué)表面的加工質(zhì)量。

    PV值的缺點在于,它是在百萬像素中,僅僅選取*極端偶然的兩個像素,決定了結(jié)果。完全不同的表面輪廓可能有相同的PV值,如下圖。


    Surface1,Surface2,Surface2表面大不相同,

    PV值一致,RMS不同。

    RMS 均方根誤差值是干涉圖中所有數(shù)據(jù)點高度的標準偏差,是一種面積加權(quán)統(tǒng)計量。每個像素點,極端的不極端的,都參與計算得到*后的結(jié)果。RMS能夠更準確地反映被測表面的光學(xué)性能。


    PV和RMS誤差并沒有特定的比例常數(shù)。這一比率往往和表面工藝,及測量表面的干涉儀分辨率相關(guān)。用Zygo干涉儀測量拋光光學(xué)表面,通常PV會是RMS的3到5倍。


    具有特定中頻誤差的表面,如單點金剛石加工的表面,PV對RMS比例通常會比較小,在2到3的范圍內(nèi)。而一個非常大的PV對RMS比率往往是一個信號,在數(shù)據(jù)中有噪聲點,或缺陷點的存在。


    PV值是一個非常“特立獨行”的面形指標,和RMS不同。RMS作為典型的統(tǒng)計面形指標,極值點會被所有像素平均;而PV值卻恰恰相反,由*極端偶然的*低*高的兩個像素,決定結(jié)果。


    我們以一次極簡條件下的仿真模擬來看看PV值的“任性”。假設(shè)對應(yīng)于每個像素,有1nm@1Sigma高斯分布噪聲,即RMS值為1nm情況下,仿真模擬了各個分辨率下,自320*240至2K*2K測量理想上乘平面的PV值的分布。如下圖:



    從仿真結(jié)果可以看出,由于偶然噪聲,系統(tǒng)即使在測試理想平面時,也會測到有一定分布規(guī)律的PV值。而且明顯隨著分辨率的提高,像素的增加,測得的PV值越來越大,不同分辨率下PV值分布的平均值,如圖自*低分辨率的~8.7nm,到*高分辨率下的~10.3nm。


    這是由于高分辨率的像素越來越多,在同樣的分布條件下,更容易出現(xiàn)噪聲分布的”極端情況“,正所謂“林子大了什么鳥都會有”,樣本多了,自然會出現(xiàn)更極端的極大極小分布。這就造成了PV值隨著分辨率提高,像素增加,增大的結(jié)果。


    實際測試時情況會更復(fù)雜。在樣品表面的邊緣,異物或者缺陷點處,微觀上被測表面會有比較大的坡度;在光學(xué)成像系統(tǒng)中心部分,可能由于“鬼像”產(chǎn)生一些小的環(huán)紋;所有這些特殊區(qū)域由于信號噪聲比相對更弱,更容易出現(xiàn)不合理的極大極小值。


    當前高精度光學(xué)平面面形計量應(yīng)用中,已經(jīng)越來越多依靠RMS(均方根誤差)這樣統(tǒng)計平均類的計量結(jié)果,以替代PV值這樣基于偶然極值的測試結(jié)果。同時,針對不同的應(yīng)用,更多專業(yè)的可靠分析方式和數(shù)值結(jié)果,如PSD(功率譜密度),Slope(坡度分布)得到廣泛應(yīng)用,得以重復(fù)可靠,可復(fù)現(xiàn)地計量檢測相關(guān)表面形貌信息。


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